表面技術

コーティング

半導体のCVDやエッチ用途ではプラズマにより活性化されるフッ素ベースの化合物がプロセスやクリーニングのレシピの一部としてよく使われます。これらの化学反応物はプロセスチャンバー内のペデスタルやシャワーヘッドなどのアルミ製品と反応します。もしそういったアルミ製品の表面が適切に保護されていなければ、この反応は、剥がれやウェハーの欠陥などを招く不安定なレイヤーの生成を抑えることができません。

タラテクノロジー社は、他社と比べてアルミの表面をより効果的に保護し、部品の長ライフ化を可能にする自社独自のプロセスを開発しました。

特徴

  • プラズマCVD絶縁保護膜／CVD AlF
  • ご要求により他の膜も対応します
  • Class100、Class1000 対応のクリーン度

用途

  • フッ素保護（AlF)

市場

  • 半導体製造装置